Le bien, le mal et le très mal (Group Show)

Gabrielle Lerch, Maxence Mathieu, Mostafa Saifi Rahmouni, Lea Belooussovitch Curateur : Michael Dans L’exposition interroge le rapport qu’entretient l’artiste entre la fiction et la réalité dans son travail. Le lieu d’exposition n’est plus un simple support pour l’art, mais se construit, bouleversé par les intentions plastiques qui décuplent son potentiel narratif, suggérant des réels différents, proche d’une atmosphère de studio de cinéma. Les propositions plastiques respectives s’approprient et transforment l’espace par le biais de la photographie, de la retouche photo, de la vidéo, de l’installation et de l’intervention in situ.